超純水設(shè)備工作原理及參數(shù)
超純水設(shè)備是將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設(shè)備。這種水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，超純水是一般工藝很難達到的,電阻率一般為10～18.3MΩ·cm.
常用工藝：
1. RO+離子交換
特點：適用于原水水質(zhì)較好的條件，投資較少，自動化程度相對較低，適用于出水品質(zhì)在10—15兆歐/厘米。
2. RO+EDI
特點：自動化程度較高，出水品質(zhì)穩(wěn)定，適用于出水品質(zhì)在15—17兆歐/厘米
3. RO+EDI+拋光床。
特點：自動化程度較高，投資較大，出水品質(zhì)優(yōu)良，適用于出水品質(zhì)在17—18.3兆歐/厘米
為了保障您的實際生產(chǎn)需求，針對選擇工藝，請咨詢我司技術(shù)人員。
基本參數(shù)：
指標(biāo) | 參數(shù) |
EDI要求： | 反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-50μs/cm，大允許電導(dǎo)率≤50μs/cm |
pH值： | 7.5—9 |
溫度： | 15℃--35℃ |
進水壓力： | 0.15—0.4MPa |
濃水進水壓力： | 0.10—0.3MPa |
產(chǎn)水壓力： | 0.05—0.25MPa |
濃水出水壓力： | 0.02—0.2MPa |
進水硬度： | 0.2—0.6MPA |
進水有機物： | TOC＜0.5ppm |
進水氧化劑： | Cl2（活性）＜0.03ppm |
進水硅： | SiO2＜0.5ppm |
進水總CO2： | ＜3ppm |
進水顆粒度： | ＜1μm |
產(chǎn)品特點：
① 產(chǎn)品水品質(zhì)高，長期運行產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定。
②自動化程度高，操作管理簡單，勞動強度低
③不會因再生而停機，連續(xù)再生，無需停機。
④不需化學(xué)再生，無污水排廢
⑤運行費用低，能耗低
⑥占地面積小，廠房投資少
應(yīng)用行業(yè)：
1、太陽能光伏行業(yè)：單/多晶硅、硅片切割、太陽能電池、半導(dǎo)體硅材料等工用純水和超純水。
2、電子工業(yè)：半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝、引線框架、集成電路、印刷電路板、液晶顯示器、觸摸屏、眼鏡鏡片、數(shù)碼相機鏡片、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用超純水。
3、生物醫(yī)藥工業(yè)：生物技術(shù)用水、醫(yī)藥生產(chǎn)用水、生化制品用水、針劑、粉針劑、藥劑、大輸液、醫(yī)用無菌水、口服液等符合GMP標(biāo)準(zhǔn)。
4、化工工業(yè)：化工工藝用水、化學(xué)試劑、化工生產(chǎn)用水、精細化工、化妝品、洗潔精、洗衣液、打印機墨水等生產(chǎn)工藝用純水。
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